May 8, 2024 · theelec 8日引述未具名消息人士報導，asml今年準備製造5台high-na euv微影設備。由於這種設備每年只能生產約5~6台，代表第一批將全數出貨給英特爾。

Apr 17, 2024 · 全球光刻機大廠艾斯摩爾(ASML-US)在4月17日表示，已將其最新的一台“High NA”極紫外光刻機運送給了第二個客戶。這是繼去年底至今年初向英特爾交付一台High ...

Feb 29, 2024 · ASML證實，最新一代高數值孔徑（high-NA）極紫外光（EUV）微影設備，不久前打出深具意義的「第一道光」，標誌著這款被看好將在最先進製程當中扮演要角 ...

Mar 25, 2024 · High-NA EUV被认为是可以降低工艺复杂性和制造成本，并是制造2nm及以下的尖端制程的关键设备。High-NA 不仅需要新的光学器件，还需要新的光源材料，例如 ...

May 8, 2024 · 對想要打造2奈米晶片的業者來說，High-NA EUV微影設備不可或缺，其價格每台超過5,000億韓圜(約3.73億美元)。 台積電(2330)甫於4月24日宣布，全新的「A16」 ...

Jan 9, 2024 · 英特爾（Intel）2024年1月5日宣布，收到ASML出貨的高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備的主要組件，希望成為未來幾年全球首家以高數值 ...

故ASML计划年底前发表首台商用High-NA（NA=0.55）EUV微影曝光设备（原型制作），2025年量产出货。2025年开始，客户就能从数值孔径为0.33传统EUV多重图案化，切换到数值孔径 ...

Dec 13, 2023 · ASML 計劃於2024 年供應新產品NXE:3800E，該設備的NA 為0.33，每小時最多可以處理220 片晶圓，其機器匹配覆蓋(MMO) 為0.9nm。

Mar 8, 2024 · Intel在3月2日釋出一段短片，慶祝ASML的High NA EUV曝光設備正式運抵美國俄勒岡工廠並進行安裝，這套系統是Intel於2022年向ASML訂購新一代曝光 ...

Feb 17, 2024 · 未來幾年，晶片製造商將採用ASML 最新的High-NA EUV 微影曝光設備，藉以進行3 奈米後製造節點的技術發展。但接下來呢？ ASML 表示，目前正在發展Hyper-NA ...